[发明专利]一种掩模板有效
申请号: | 201410145265.0 | 申请日: | 2014-04-11 |
公开(公告)号: | CN103941540B | 公开(公告)日: | 2017-05-10 |
发明(设计)人: | 金基用;孙增标;王涛;许朝钦 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/40 | 分类号: | G03F1/40 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种掩模板,用以提供一种新型结构的掩模板,避免掩模板上因静电释放而破坏掩模板上掩模图形的问题。所述掩模板包括衬底,以及位于所述衬底上的透光区域和遮光区域,所述遮光区域设置有至少两个分别具有设定掩模图形且可导电的遮光层,还包括一个或多个分别用于电连接至少两个所述遮光层的连接线,所述连接线的宽度为0.3~1.5μm。 | ||
搜索关键词: | 一种 模板 | ||
【主权项】:
一种掩模板,其特征在于,包括:衬底和所述衬底上的透光区域和遮光区域,所述遮光区域设置有至少两个分别具有设定掩模图形且可导电的遮光层,其中,所述遮光层至少包括第一遮光层和除所述第一遮光层之外的其它遮光层,所述第一遮光层为梳状结构,所述其它遮光层中的每一个遮光层均为条状结构,且所述其它遮光层与所述第一遮光层中的梳齿状结构间隔排列;还包括:一个或多个分别用于电连接至少两个所述遮光层的连接线,所述连接线的宽度为0.3~1.5μm。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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