[发明专利]剥离光阻用组成物及其使用方法在审

专利信息
申请号: 201410157681.2 申请日: 2014-04-18
公开(公告)号: CN104122763A 公开(公告)日: 2014-10-29
发明(设计)人: 刘骐铭;施俊安 申请(专利权)人: 奇美实业股份有限公司
主分类号: G03F7/42 分类号: G03F7/42
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 中国台湾台南市*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明涉及剥离光阻用组成物及其使用方法。一种剥离光阻用组成物包含胺系化合物、醇系化合物、季铵盐化合物、有机溶剂以及水。该胺系化合物包括至少一种由下列群组所组成的叔胺系化合物:式(I)所示的氮杂环化合物及具有至少两个叔胺的链状多胺化合物。该醇系化合物包括至少一种由下列群组所组成的第一醇系化合物:糖系化合物及含炔基的醇系化合物。于式(I)中,A及B如说明书与权利要求中所定义。该剥离光阻用组成物可防止已剥离的光阻回沾至金属层或绝缘层上,且具有大洗净容量。
搜索关键词: 剥离 光阻用 组成 及其 使用方法
【主权项】:
一种剥离光阻用组成物,其特征在于包含:胺系化合物,包括至少一种由下列群组所组成的叔胺系化合物:式(I)所示的氮杂环化合物及具有至少两个叔胺的链状多胺化合物;于式(I)中,A及B分别表示条件是A及B中至少一者表示其中,该R表示未经取代的C1至C4的烷基,或经取代的C1至C4的烷基;醇系化合物,包括至少一种由下列群组所组成的第一醇系化合物:糖系化合物及含炔基的醇系化合物;季铵盐化合物;有机溶剂;以及水。
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