[发明专利]可简化数组制程工序的微影成形方法在审
| 申请号： | 201410166913.0 | 申请日： | 2014-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN103913947A | 公开（公告）日： | 2014-07-09 |
| 发明（设计）人： | 吳思宗 | 申请（专利权）人： | 上海和辉光电有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/16 |
| 代理公司： | 上海唯源专利代理有限公司 31229 | 代理人： | 曾耀先 |
| 地址： | 201508 上海市金山区*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种可简化数组制程的微影成形方法，主要是在涂布光阻剂时连续涂布两种或两种以上的光阻剂，并配合单一光罩进行作用，则不同的光阻剂凭借其不同的感光条件与光源产生不同的反应并能成形出不同的锥形体，因此，可简化一般在成形不同锥形体时皆需分别配合一个光罩的数组制程工序及光罩数量，而能大幅简化制成工序、降低生产成本，提高制程效率及经济效益。 | ||
| 搜索关键词： | 可简化 数组 工序 成形 方法 | ||
【主权项】：
一种可简化数组制程工序的微影成形方法，其特征在于包含：连续涂布光阻剂步骤，于一玻璃基板上依序层迭涂布复数不同的光阻剂，各光阻剂的感光条件不同，且于在先涂布的光阻剂干燥后才涂布另一种光阻剂；曝光步骤，透过一光罩对已涂布不同光阻剂的玻璃基板进行曝光并使该光罩上的图形转移至光阻剂上，不同的光阻剂便能与该光罩的光源产生不同的感光反应，并在同一曝光步骤下产生不同反应；显影步骤，对曝光后的光阻剂进行显影；养护步骤，透过烘烤使显影后的图形部分稳固地结合于该玻璃基板上；以及蚀刻步骤，透过蚀刻工法形成不同锥形体。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海和辉光电有限公司，未经上海和辉光电有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410166913.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
