[发明专利]一种氟钽酸钾中硅含量的测定方法有效
申请号: | 201410177723.9 | 申请日: | 2014-04-29 |
公开(公告)号: | CN103940807A | 公开(公告)日: | 2014-07-23 |
发明(设计)人: | 黄双;曾国忠;周丽 | 申请(专利权)人: | 从化钽铌冶炼厂 |
主分类号: | G01N21/73 | 分类号: | G01N21/73;G01N1/38 |
代理公司: | 东莞市中正知识产权事务所 44231 | 代理人: | 张汉青 |
地址: | 510900 *** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种氟钽酸钾中硅含量的测定方法,该测定方法是采用ICP光谱仪,并采用耐氢氟酸进样系统;选用提纯后的电子级硝酸和氢氟酸;调整ICP光谱仪矩管的中心管、内管的高度使火焰底部与ICP光谱仪矩管的石英外管的距离比标准距离增加约50%;且每次测定与下次测定之间选用表面活性剂Triton-X100配制的溶液作为洗液,对ICP光谱仪的进样系统进行清洗。本发明方法克服业内一贯的技术壁垒,通过耐HF酸进样系统的引入、ICP光谱仪矩管中心管、内管位置调整、特定参数的设定、洗液的研制、标准样品的制备、试剂的提纯及选择等综合技术方案,实现用ICP光谱分析氟钽酸钾中的硅元素含量,并且测定下限达到0.0005%,在国内同行中属首创。 | ||
搜索关键词: | 一种 氟钽酸钾中硅 含量 测定 方法 | ||
【主权项】:
一种氟钽酸钾中硅含量的测定方法,其特征在于:该测定方法是采用ICP光谱仪,并采用耐氢氟酸进样系统;选用提纯后的电子级硝酸和氢氟酸;调整ICP光谱仪矩管的中心管、内管的高度使火焰底部与ICP光谱仪矩管的石英外管的距离比标准距离增加约50%;且每次测定与下次测定之间选用表面活性剂Triton‑X100配制的溶液作为洗液,对ICP光谱仪的进样系统进行清洗。
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