[发明专利]一种刻蚀方法和阵列基板

摘要

本发明的实施例提供一种刻蚀方法和阵列基板，解决了现有的阵列基板制作方案中进行ITO图案化刻蚀时出现刻蚀不干净和刻蚀速度较慢的问题，增强了显示面板的ITO图案化的刻蚀效果和实用性，提高了刻蚀速率，同时，降低了刻蚀成本。包括：在基板上形成一层氧化铟锡ITO膜层；在ITO膜层上形成一层光刻胶层；在光刻胶层上方设置掩膜板，掩膜板不完全覆盖光刻胶层；祛除光刻胶层中未被掩膜板覆盖的光刻胶；采用湿法刻蚀工艺刻蚀掉ITO膜层中未被光刻胶层覆盖的ITO膜层；采用干法刻蚀工艺刻蚀掉ITO膜层中未被光刻胶层覆盖的ITO膜层中通过湿法刻蚀工艺刻蚀后残留的ITO膜层。本发明应用于显示面板制作中。

主权项

一种刻蚀方法，其特征在于，所述方法包括：在基板上形成一层氧化铟锡ITO膜层；在所述ITO膜层上形成一层光刻胶层；在所述光刻胶层上方设置掩膜板，所述掩膜板不完全覆盖所述光刻胶层；祛除所述光刻胶层中未被所述掩膜板覆盖的光刻胶；采用湿法刻蚀工艺刻蚀掉所述ITO膜层中未被所述光刻胶层覆盖的所述ITO膜层；采用干法刻蚀工艺刻蚀掉所述ITO膜层中未被所述光刻胶层覆盖的所述ITO膜层中通过所述湿法刻蚀工艺刻蚀后残留的ITO膜层。