[发明专利]一种电容触摸屏的制作工艺在审
申请号: | 201410196517.2 | 申请日: | 2014-05-09 |
公开(公告)号: | CN104090694A | 公开(公告)日: | 2014-10-08 |
发明(设计)人: | 汪峻铭 | 申请(专利权)人: | 浙江金指科技有限公司 |
主分类号: | G06F3/044 | 分类号: | G06F3/044 |
代理公司: | 杭州华鼎知识产权代理事务所(普通合伙) 33217 | 代理人: | 胡根良 |
地址: | 313100 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种电容触摸屏的制作工艺,属触摸屏领域,解决了on-cell触摸屏灵敏度不高、ITO导电膜厚度不均匀的问题。一种电容触摸屏的制作工艺,包括下述步骤,取带有彩色滤光片的液晶显示玻璃层,在彩色滤光片上沉积金属导电膜,并蚀刻过桥、引线、引点;在金属导电膜上覆盖OC绝缘层;在OC绝缘层上沉积ITO导电膜,ITO导电膜的厚度为130纳米-140纳米,蚀刻ITO图形,并与金属导电膜的过桥电连接;在ITO导电膜上固定柔性引线;使用透明光学胶将玻璃盖板贴合至ITO导电膜上,制成电容触摸屏。在on-cell电容式触摸屏中使用SITO工艺,提高了触摸屏的灵敏度,同时可保持ITO导电膜的厚度较为均匀,便于黄光制程工艺实施,提高了良品率。 | ||
搜索关键词: | 一种 电容 触摸屏 制作 工艺 | ||
【主权项】:
一种电容触摸屏的制作工艺,其特征在于:包括下述步骤,(A)取带有彩色滤光片的液晶显示玻璃层,在彩色滤光片上沉积金属导电膜,并蚀刻过桥、引线、引点;(B)在金属导电膜上覆盖OC绝缘层;(C)在OC绝缘层上沉积ITO导电膜,ITO导电膜的厚度为130纳米‑140纳米,蚀刻ITO图形,并与金属导电膜的过桥电连接;(D)在ITO导电膜上固定柔性引线;(E)使用透明光学胶将玻璃盖板贴合至ITO导电膜上,制成电容触摸屏。
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