[发明专利]反渗透膜元件化学清洗方法

摘要

本发明涉及反渗透膜元件化学清洗方法，属于水处理技术领域，该方法包括如下步骤：步骤（1）用活性物含量为5~7%异噻唑啉酮溶液浸泡反渗透膜元件的一段和二段，浸泡时间不少于6小时；步骤（2）判断反渗透膜元件受何种污染物污染，然后选择相应的化学清洗药剂；步骤（3）根据步骤（2）的选择的化学清洗药剂，分以下三种情况进行清洗：只含有酸性清洗药剂、只含有碱性清洗药剂和同时含有酸性清洗药剂和碱性清洗药剂进行清洗，其清洗效果明显优于传统清洗配方，能明显提高产水量和回收率，降低反渗透设备运行压差及产水电导率，同时减少化学清洗次数和清洗时化学药剂对膜元件的损伤。

主权项

一种反渗透膜元件化学清洗方法，其特征在于包括如下步骤：步骤（1），用活性物含量为5~7%异噻唑啉酮溶液浸泡反渗透膜元件的一段和二段，浸泡时间不少于6小时；步骤（2），判断反渗透膜元件受何种污染物污染，然后选择相应的化学清洗药剂，具体如下：当所述的污染物为无机盐时，化学清洗药剂为质量分数为0.2%盐酸水溶液；当所述的污染物为金属氧化物时，化学清洗药剂为质量分数为1.0%亚硫酸氢钠水溶液和质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液；当所述的污染物为无机胶体时，化学清洗药剂为质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液和质量分数为0.1%十二烷基苯磺酸钠水溶液；当所述的污染物为生物膜时，化学清洗药剂为质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液和质量分数为1.0%乙二胺四乙酸四钠盐水溶液；当所述的污染物为有机物时，化学清洗药剂为质量分数为0.2%盐酸水溶液、质量分数为0.1%十二烷基苯磺酸钠水溶液、质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液、质量分数为1.0%乙二胺四乙酸四钠盐水溶液和质量分数为0.1%三聚磷酸钠水溶液；当所述的污染物为硅时，化学清洗药剂为质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液和质量分数为1.0%乙二胺四乙酸四钠盐水溶液；当所述的污染物为细菌时，化学清洗药剂为活性物含量为6%的异噻唑啉酮溶液和质量分数为0.2%盐酸水溶液；步骤（3），根据步骤（2）选择的化学清洗药剂，分以下三种情况进行清洗：第一种，如果步骤（2）选择的化学清洗药剂中只含有酸性清洗药剂，则用酸性清洗药剂将经步骤（1）浸泡得到的反渗透膜元件的一段先进行清洗，然后再清洗二段，其中，一段清洗时间为50~80min，二段清洗时间为50~80min；接着再用除盐水清洗一段和二段膜元件，至排水水质为中性；第二种，如果步骤（2）选择的化学清洗药剂中只含有碱性清洗药剂，则用碱性清洗药剂将经步骤（1）浸泡得到的反渗透膜元件的一段先进行清洗，然后再清洗二段，其中，一段清洗时间为50~80min，二段清洗时间为50~80min；接着再用除盐水清洗一段和二段膜元件，至排水水质为中性；第三种，如果步骤（2）选择的化学清洗药剂中同时含有酸性清洗药剂和碱性清洗药剂，则用酸性清洗药剂将经步骤（1）浸泡得到的反渗透膜元件的一段先进行清洗，然后再清洗二段，其中，一段清洗时间为50~80min，二段清洗时间为50~80min；接着再用除盐水清洗一段和二段膜元件，至排水水质为中性；之后再用碱性清洗药剂对经过本步骤酸洗的反渗透膜元件的一段先进行清洗，然后再清洗二段，其中，一段清洗时间为50~80min，二段清洗时间为50~80min；最后再用除盐水清洗一段和二段膜元件，至排水水质为中性；清洗过程中的压力为0.18~0.22MPa、流量为48~52m³/h。