[发明专利]一种真空设备有效
| 申请号： | 201410203251.X | 申请日： | 2014-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN103972013A | 公开（公告）日： | 2014-08-06 |
| 发明（设计）人： | 杨海涛;郑云友;吴成龙;李伟;宋泳珍;李鑫;封林;刘杰 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/04 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的实施例提供一种真空设备，涉及显示技术领域，可消除基板与电极之间的静电吸附，从而避免基板的破损；所述真空设备包括真空腔、位于所述真空腔内部且相对设置的第一电极和第二电极、以及用于定位基板的定位结构；所述基板位于所述第一电极和所述第二电极之间，且贴近所述第一电极或所述第二电极放置；所述真空设备还包括静电消除装置；其中，所述静电消除装置通过将带电粒子引至所述基板贴近所述第一电极一侧的表面或者所述基板贴近所述第二电极一侧的表面以消除所述基板与所述第一电极和/或所述基板与所述第二电极之间的静电吸附作用；用于真空设备的制造。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空设备 | ||
【主权项】：
一种真空设备，包括真空腔、位于所述真空腔内部且相对设置的第一电极和第二电极、以及用于定位基板的定位结构；其特征在于，所述基板位于所述第一电极和所述第二电极之间，且贴近所述第一电极或所述第二电极放置；所述真空设备还包括静电消除装置；其中，所述静电消除装置通过将带电粒子引至所述基板贴近所述第一电极一侧的表面或者所述基板贴近所述第二电极一侧的表面以消除所述基板与所述第一电极和/或所述基板与所述第二电极之间的静电吸附作用。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410203251.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种粉条机的传动装置
- 下一篇：笔记本电脑散热扩展坞
