[发明专利]降低光掩模板条纹的方法及装置

摘要

本发明适用于光掩模生产领域，尤其涉及降低光掩模板条纹的方法及装置，所述方法包括下述步骤设计制作光掩模检测板；根据划分间隔通过光掩模检测板对光掩模板的涂胶或不同区域的光强度进行矩阵测量，测量每个矩阵点，得到每个矩阵点的偏差；将图形按照矩阵点划分间隔进行分割，分割成小单元，按照分割后图形每个顶点所在的坐标测量小单元矩阵中的四个点围成的区域，根据小单元矩阵中的四个点求出此点的偏差，在进行光刻前对图形进行反补。本发明通过对产生光掩模板条纹的原因，对光掩模板进行光刻前光刻采用的图形进行反补，使得光刻后反补的效果抵消了由于误差导致的出现条纹的情况，使得降低光掩模板出现条纹的情况。

主权项

降低光掩模板条纹的方法，其特征在于，所述方法包括下述步骤：设计制作光掩模检测板；所述光掩模检测板以光掩模制作设备或平板显示器曝光设备的最高设计能力设计最小线缝；根据划分间隔通过光掩模检测板对光掩模板的涂胶或不同区域的光强度进行矩阵测量，测量每个矩阵点，得到每个矩阵点的偏差；将图形按照划分间隔进行分割，分割成小单元，按照分割后图形每个顶点所在的坐标测量小单元矩阵中的四个点围成的区域，根据小单元矩阵中的四个点求出此顶点的偏差，在进行光刻前对图形进行反补；补偿后的X值X’为：X′=X-(xlb*YLT-YYLT-YLB*(XRB-X)XRB-XLB+xrb*(YRT-Y)YRT-YRB*X-XLBXRB-XLB+xrt*Y-YRBYRT-YRB*X-XLTXRT-XLT+xlt*Y-YLBYLT-YLB*XRT-XXRT-XLT)]]>补偿后的Y值Y’为：Y′=Y-(ylb*YLT-YYLT-YLB*(XRB-X)XRB-XLB+yrb*(YRT-Y)YRT-YRB*X-XLBXRB-XLB+yrt*Y-YRBYRT-YRB*X-XLTXRT-XLT+ylt*Y-YLBYLT-YLB*XRT-XXRT-XLT)]]>其中，顶点的坐标为(X，Y)，四个矩阵点的坐标为左下(XLB，YLB)，右下(XRB，YRB)，右上(XRT，YRT)，左上(XLT，YLT)，四个矩阵点的偏差分别为(xlb，ylb)，(xrb，yrb)，(xrt，yrt)，(xlt，ylt)。