[发明专利]斜入射反射型点衍射板及其干涉测量方法有效

专利信息
申请号: 201410239682.1 申请日: 2014-05-30
公开(公告)号: CN103983366B 公开(公告)日: 2017-03-15
发明(设计)人: 陈磊;朱文华;韩志刚;李金鹏;郑东晖;李建欣;乌兰图雅 申请(专利权)人: 南京理工大学
主分类号: G01J9/02 分类号: G01J9/02
代理公司: 南京理工大学专利中心32203 代理人: 朱显国
地址: 210094 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种斜入射反射型点衍射板及其干涉测量方法。该点衍射板的基底采用折射率均匀的光学玻璃,且该光学玻璃为平行平板结构;所述基底的入射面上部镀有增透膜、下部镀有介质膜,基底的反射面上部镀有高反膜、下部镀有增透膜;所述入射面下部的介质膜内设有一个椭圆孔;所述基底反射面上部的高反膜在入射面上的投影与入射面下部的介质膜部分重叠,使反射面上部的高反膜只将入射光反射一次。干涉测量方法为(1)调整点衍射板的位置,(2)用探测器采集载频干涉图,(3)对干涉图进行傅里叶变换处理恢复波前相位,(4)对恢复的相位进行Zernike拟合,(5)系统误差标定。本发明对激光瞬态波前检测的精度高、成本低,且测试过程简单方便。
搜索关键词: 入射 反射 衍射 及其 干涉 测量方法
【主权项】:
一种斜入射反射型点衍射板,其特征在于,该点衍射板的基底采用折射率均匀的光学玻璃,且该光学玻璃为厚度为h的平行平板结构;所述基底的入射面上部镀有透过率为t1的增透膜、下部镀有透过率为r1的介质膜,基底的反射面上部镀有反射率为r2的高反膜、下部镀有透过率为t2的增透膜;所述入射面下部的介质膜内设有一个椭圆孔,该椭圆孔的中心到入射面上部增透膜的距离为d;所述基底反射面上部的高反膜在入射面上的投影与入射面下部的介质膜部分重叠,使反射面上部的高反膜只将入射光反射一次;所述光学玻璃为厚度为h的平行平板结构,其中h如下式所示:h=NλF8cosθtan[arcsin(sinθn)]]]>其中,N为探测器横向像素数,λ为入射光的中心波长,F为会聚光束的F数,n为点衍射板基底的折射率,θ为点衍射板的工作角度,即会聚光束的光轴与点衍射板入射面法线的夹角。
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