[发明专利]一种次临界系统次临界度的测量方法有效
| 申请号： | 201410281628.3 | 申请日： | 2014-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN104036834B | 公开（公告）日： | 2017-01-25 |
| 发明（设计）人： | 杨英坤;刘超;常博;曾勤;吴宜灿 | 申请（专利权）人： | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
| 主分类号： | G21C17/00 | 分类号： | G21C17/00 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司11251 | 代理人： | 孟卜娟,李新华 |
| 地址： | 230031 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供一种次临界系统次临界度的测量方法。其包括将至少两个相同的探测器均匀布置在受外源影响相同的对称位置；获取至少两个相同的探测器的探测器截面Σdet空间及能量分布；改变系统次临界度，测量预设组不同状态的“真实”次临界度；根据至少两个相同的探测器的探测器截面Σdet空间及能量分布,测量预设组不同状态的“测量”次临界度；根据预设组不同状态的“真实”次临界度与“测量”次临界度，得到“真实”与“测量”次临界度的对应关系；运行中，对任一当前状态，根据当前状态的“测量”次临界度和“真实”与“测量”次临界度的对应关系，获取当前的“真实”次临界度。本发明的技术方案对通量的畸变更不敏感，增强了测量的准确性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 临界 系统 测量方法 | ||
【主权项】：
一种次临界系统次临界度的测量方法，其特征在于，包括如下步骤:(1)、将至少两个相同的探测器均匀布置在受外源影响相同的对称位置；(2)、获取所述至少两个相同的探测器的探测器截面Σdet空间及能量分布；(3)、改变系统次临界度，测量预设组不同状态的“真实”次临界度；(4)、根据所述至少两个相同的探测器的探测器截面Σdet空间及能量分布,测量所述预设组不同状态的“测量”次临界度；(5)、根据所述预设组不同状态的“真实”次临界度与“测量”次临界度，得到“真实”次临界度与“测量”次临界度的对应关系；(6)、运行中，对任一当前状态，根据所述当前状态的“测量”次临界度和所述“真实”次临界度与“测量”次临界度的对应关系，获取所述当前状态的“真实”次临界度；其中，根据所述至少两个相同的探测器探测到的探测器截面Σdet空间及能量分布,测量所述预设组不同状态的“测量”次临界度，包括：根据所述至少两个相同的探测器的探测器截面Σdet空间及能量分布抽象一个集总探测器；选择一次临界度值已知的参考态，记录第一已知源强和所述集总探测器测量出第一探测器计数；对所述预设组的任一待测状态，记录第二已知源强和所述集总探测器测量出的第二探测器计数；将所述第一已知源强、所述第一探测器计数、所述第二已知源强以及所述第二探测器计数，代入源倍增法公式中求得所述预设组中待测状态的所述“测量”次临界度。
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