[发明专利]一种芯片背面裸露的扇出型封装结构及制造方法在审

专利信息
申请号: 201410292957.8 申请日: 2014-06-25
公开(公告)号: CN104241217A 公开(公告)日: 2014-12-24
发明(设计)人: 于中尧 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所;华进半导体封装先导技术研发中心有限公司
主分类号: H01L23/31 分类号: H01L23/31;H01L21/98
代理公司: 北京华沛德权律师事务所 11302 代理人: 刘杰
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种芯片背面裸露的扇出型封装结构及制造方法,所述结构包括芯片、再布线层、限高块、凸点,其中,所述芯片设置在所述再布线层的第一面上,其中所述芯片距离所述再布线层具有第一距离;所述限高块设置在所述再布线层的第一面上,其中所述限高块距离所述再布线层具有第二距离;其中,所述再布线层、所述限高块、所述芯片构成了第一空间,且所述第一空间内填充树脂;其中,所述第二距离等于所述第一距离。本发明通过使用限高块而不必使用高精度塑封模具,具有大幅度降低封装制造和加工成本的技术效果。
搜索关键词: 一种 芯片 背面 裸露 扇出型 封装 结构 制造 方法
【主权项】:
一种芯片背面裸露的扇出型封装结构,其特征在于,所述结构包括:芯片;再布线层,所述芯片设置在所述再布线层的第一面上,其中所述芯片距离所述再布线层具有第一距离;限高块,所述限高块设置在所述再布线层的第一面上,其中所述限高块距离所述再布线层具有第二距离;凸点,所述凸点设置在所述再布线层的第二面上,其中所述第一面与所述第二面为相反的面;其中,所述再布线层、所述限高块、所述芯片构成了第一空间,且所述第一空间内填充树脂;其中,所述第二距离等于所述第一距离。
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