[发明专利]实时监控淀积设备的换向阀门的工作状态的方法有效
申请号: | 201410306456.0 | 申请日: | 2014-06-30 |
公开(公告)号: | CN104032284B | 公开(公告)日: | 2017-01-04 |
发明(设计)人: | 陆金;归剑;刘峰松 | 申请(专利权)人: | 上海先进半导体制造股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/52 | 分类号: | C23C16/52 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人: | 徐洁晶 |
地址: | 200233 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种实时监控淀积设备的换向阀门的工作状态的方法,包括步骤:在淀积工艺的步骤之前将淀积设备的工艺腔体内的压力抽至底压,并将其节流阀完全关闭;预流大流量的氦气并通过换向阀门直接绕开工艺腔体,氦气直接被泵抽走;淀积设备的压力检测系统检测工艺腔体内的压力;若压力相比于底压有急剧上升的情形,则认定换向阀门存在问题,否则认定换向阀门状态正常。本发明的方法能够整合进入整个工艺菜单之中,在每一次淀积工艺的执行之前都可以检测一遍,从而实现实时监控换向阀门的工作状态,并且在该换向阀门发生问题时能及时发现,提高了工艺的稳定性,减少了由此造成的良率损失。 | ||
搜索关键词: | 实时 监控 设备 换向 阀门 工作 状态 方法 | ||
【主权项】:
一种实时监控淀积设备的换向阀门的工作状态的方法,包括步骤:在淀积工艺的步骤之前将所述淀积设备的工艺腔体内的压力抽至底压,并将其节流阀完全关闭;预流大流量的氦气并通过所述换向阀门直接绕开所述工艺腔体,所述氦气直接被泵抽走;所述淀积设备的压力检测系统检测所述工艺腔体内的压力;若所述压力相比于所述底压有急剧上升的情形,则认定所述换向阀门存在问题,否则认定所述换向阀门状态正常;其中,所述底压是指所述工艺腔体内的压力范围为0~30毫托;所述大流量的氦气是指所述氦气的流量在3000sccm以上;所述急剧上升的情形是指在所述压力的检测时间内,所述压力从所述底压上升至数百毫托。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的