[发明专利]一种HfS3纳米带的制备方法及其制备的HfS3纳米带和用途无效

专利信息
申请号: 201410308789.7 申请日: 2014-07-01
公开(公告)号: CN104030350A 公开(公告)日: 2014-09-10
发明(设计)人: 朱俊杰;熊维伟;吴兴才;陈晋强 申请(专利权)人: 南京大学
主分类号: C01G27/00 分类号: C01G27/00;H01L21/335;H01L29/772;B82Y40/00
代理公司: 南京知识律师事务所 32207 代理人: 黄嘉栋
地址: 210093 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种制备HfS3纳米带材料的方法,将铪粉末与升华硫粉末按照1:3比例混合,充分研磨至混合均匀,将混合好的反应原料装入一端封闭的石英管中,抽真空,焰封。将密封好的石英管水平放入卧式管式炉中,在一定温度下反应一段时间后,石英管内生成产物三硫化铪(HfS3)纳米带。由本发明HfS3纳米带材料制备FET或光探测器器件,FET为p型半导体,可见光探测器在可见光的波长范围内具有敏感的光电特性。本发明公开了其制法。
搜索关键词: 一种 hfs sub 纳米 制备 方法 及其 用途
【主权项】:
一种制备HfS3纳米带的方法,其特征是:首先将铪粉末与升华硫粉末按照1:3比例混合,充分混合均匀,然后,将混合好的反应原料装入一端封闭的石英管中,抽真空,焰封,将密封好的石英管水平放入卧式管式炉中,在550‑750℃下反应5‑20h,产物三硫化铪(HfS3)纳米带就在石英管内生成,反应结束后,石英管自然冷却至室温,开管后,用摄子将产物取出,制得表面光滑、宽度为300‑500nm,长度为30‑50微米的HfS3纳米带。
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