[发明专利]缺陷检查方法在审
| 申请号： | 201410318251.4 | 申请日： | 2014-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN104280405A | 公开（公告）日： | 2015-01-14 |
| 发明（设计）人： | 小林信次;波冈诚;森定郁夫;及川伸 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/95 | 分类号： | G01N21/95 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人： | 肖华 |
| 地址： | 日本东京都中*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种薄膜的缺陷检查方法，在薄膜的第一主面侧配置具有700000cd/m2以上的亮度的高亮度光源，在薄膜的第二主面侧从偏离了高亮度光源的光轴的位置，通过目视观察被高亮度光源照明的薄膜的图像。 | ||
| 搜索关键词： | 缺陷 检查 方法 | ||
【主权项】：
一种缺陷检查方法，其是薄膜的缺陷检查方法，其特征在于，在所述薄膜的第一主面侧配置具有700000cd/m2以上的亮度的高亮度光源，在所述薄膜的第二主面侧从偏离了所述高亮度光源的光轴的位置，通过目视观察被所述高亮度光源照明的所述薄膜的图像。
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