[发明专利]一种针对工业局部清洁的碳氢化合物/等离子体的清洁方法无效
| 申请号： | 201410320287.6 | 申请日： | 2014-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN104148334A | 公开（公告）日： | 2014-11-19 |
| 发明（设计）人： | 李立 | 申请（专利权）人： | 太仓华德石太工业设备有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00 |
| 代理公司： | 无 | 代理人： | 无 |
| 地址： | 215400 江苏省苏州市太仓市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种针对工业局部清洁的碳氢化合物/等离子体的清洁方法，该方法包括如下步骤：设置真空泵舱内的压力，根据实现的反应过程不同通入气体，如果是氧化反应则通入氧化，如果是还原反应则通入氩氢气，通过质量流量控制器控制流入装置的气体数量(说明书：数量的选择一般由大约1毫巴的反应压所决定。而这种压力的大小又是根据真空泵的功率大小和通入的气体数量来制定。)在所述气体中，通过一个微波源引入能量。能达到现今最高的清洁水平。绝对无油脂的表面，是去除较薄的剩余污渍的首选，不会产生污垢积聚，可以深入比如各种裂缝中和精细的孔眼中，等离子体处理后的各个构件都是绝对干燥的，整个操作是极其环保的过程。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 针对 工业 局部 清洁 碳氢化合物 等离子体 方法 | ||
【主权项】：
一种针对工业局部清洁的碳氢化合物/等离子体的清洁方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：设置真空泵舱内的压力，根据实现的反应过程不同通入气体，如果是氧化反应则通入氧化，如果是还原反应则通入氩氢气，通过质量流量控制器控制流入装置的气体数量，在所述气体中通过一个微波源引入能量。
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