[发明专利]薄膜形成方法及薄膜形成装置在审
| 申请号： | 201410341806.7 | 申请日： | 2014-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN104349602A | 公开（公告）日： | 2015-02-11 |
| 发明（设计）人： | 冈本裕司 | 申请（专利权）人： | 住友重机械工业株式会社 |
| 主分类号： | H05K3/30 | 分类号： | H05K3/30;H01L21/50 |
| 代理公司： | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人： | 温旭;郝传鑫 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种薄膜形成方法及薄膜形成装置，所述薄膜形成方法中，即使基板的表面为憎液性，也能够使薄膜材料覆盖应涂布的区域的整个区域。本发明的薄膜形成方法中，在憎液性的表面一边移动着落地点一边重复进行使光固化性的薄膜材料着落的处理、和着落后向表面上的薄膜材料照射光而使其固化的处理，由此在表面的应涂布薄膜材料的区域形成第1膜。通过在第1膜上涂布液状的薄膜材料，来形成液状的第2膜。在形成第2膜之后，照射光而使第2膜固化。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 形成 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种薄膜形成方法，其具有：在憎液性的表面一边移动着落地点一边重复进行使光固化性的薄膜材料着落的处理、和着落后向所述表面上的薄膜材料照射光而使其固化的处理，由此在所述表面的应涂布薄膜材料的区域形成第1膜的工序；通过在所述第1膜上涂布液状的所述薄膜材料，形成液状的第2膜的工序；及在形成所述第2膜之后，照射光而使所述第2膜固化的工序。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友重机械工业株式会社，未经住友重机械工业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410341806.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：用于在显示装置上组织和显示信息的系统
- 下一篇：可穿戴电子设备上的GUI转变
