[发明专利]一种强激光取样衰减器有效

专利信息
申请号: 201410354915.2 申请日: 2014-07-24
公开(公告)号: CN104133302A 公开(公告)日: 2014-11-05
发明(设计)人: 庞淼;张卫;胡晓阳;周文超;高学燕;周山;何均章 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院应用电子学研究所
主分类号: G02F1/01 分类号: G02F1/01;G01J1/04
代理公司: 中国工程物理研究院专利中心 51210 代理人: 韩志英
地址: 621999 四川*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种强激光取样衰减器,所述取样衰减器中的上部设置有漫反射取样板,漫反射取样板下部依次与衰减腔板、取样光散射板、衰减底板固定连接。漫透射材料置于取样光散射板和衰减底板之间。漫反射取样板用于对非取样强激光进行漫反射,具有高损伤阈值,漫反射取样板上的通孔用于对激光束进行空间取样,取样光散射板用于对取样强激光进行漫反射,衰减腔用于衰减匀化取样激光,漫透射材料用于将发散匀化后的激光再次进行取样,衰减底板上的通孔再次对漫透射取样光进行衰减。本发明解决了持续时间数十秒、功率密度10kW/cm2的强激光现有取样衰减器无法直接进行取样和衰减的问题,对于强激光参数测量具有重要促进作用。
搜索关键词: 一种 激光 取样 衰减器
【主权项】:
一种强激光取样衰减器,其特征在于:所述取样衰减器外形为柱状,包括漫反射取样板(1)、衰减腔板(2)、取样光散射板(3)、漫透射材料(4)、衰减底板(5);所述漫反射取样板(1)用于对非取样强激光进行漫反射;所述漫反射取样板(1)上设置有通孔用于对入射激光束进行空间强度分布取样;所述衰减腔板(2)上设置有衰减腔用于衰减和匀化取样强激光;所述取样光散射板(3)用于对取样强激光进行漫反射;所述漫透射材料(4)用于对发散匀化后的取样光再次进行取样;所述衰减底板(5)上设置有通孔用于对漫透射取样激光再次进行衰减;所述取样衰减器的上部设置有漫反射取样板(1),漫反射取样板(1)下部依次与衰减腔板(2)、取样光散射板(3)、衰减底板(5)固定连接;漫反射取样板(1)轴向设置有圆形的通孔Ⅰ(6);衰减腔板(2)的上部轴向设置有圆形的通孔Ⅱ(7),下部轴向设置有衰减腔(8);所述的取样光散射板(3)的轴向设置有圆形通孔Ⅲ(9);所述的衰减底板(5)的轴向设置有圆形通孔Ⅳ(10);通孔Ⅱ(7)、通孔Ⅲ(9)分别与衰减腔(8)相通,且通孔Ⅱ(7)与通孔Ⅲ(9)为轴向平行设置;所述漫透射材料(4)置于取样光散射板(3)的通孔Ⅲ(9)中,漫透射材料(4)的上表面与取样光散射板(3)上的通孔Ⅲ(9)中的台阶平齐,漫透射材料(4)的下表面与衰减底板(5)的上表面平齐。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院应用电子学研究所,未经中国工程物理研究院应用电子学研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410354915.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top