[发明专利]基板处理装置

摘要

本发明提供基板处理装置，本发明的基板处理装置，其特征在于，包括密闭腔室，其内部空间相对外部密闭，该密闭腔室包括具有开口的腔室主体、能旋转地设置在所述腔室主体上并使所述开口闭塞的盖部件、用液体密封所述盖部件与所述腔室主体之间的第一液体密封结构；盖部件旋转单元，其用于使所述盖部件旋转；基板保持旋转单元，其在所述密闭腔室的内部空间内，一边保持基板一边使该基板旋转；和处理液供给单元，其向借助所述基板保持旋转单元旋转的基板供给处理液。

主权项

一种基板处理装置，其特征在于，包括：密闭腔室，其具有筒状的分隔壁和盖部件，所述分隔壁具有上部开口且用于划分与所述上部开口相连通的内部空间，所述盖部件用于开闭所述上部开口，所述密闭腔室在由所述盖部件使所述上部开口闭塞的状态下实现所述内部空间的密闭状态；基板保持旋转单元，其在所述密闭腔室的内部空间内，一边保持基板一边使该基板旋转；喷嘴，其在所述密闭腔室的内部空间内，向所述基板保持旋转单元所保持的基板的主面喷出处理液；喷嘴臂，其支撑所述喷嘴，而且，经由形成在所述密闭腔室的所述分隔壁上且位于所述上部开口的下方的贯通孔，在所述密闭腔室的内外延伸；驱动单元，其配置在所述密闭腔室外，在所述内部空间的所述密闭状态下，用于使所述喷嘴臂沿所述基板保持旋转单元所保持的基板的主面移动。