[发明专利]电化学抛光设备有效
| 申请号： | 201410366491.1 | 申请日： | 2014-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN105316755B | 公开（公告）日： | 2019-06-25 |
| 发明（设计）人： | 杨宏超;金一诺;张怀东;王坚;王晖 | 申请（专利权）人： | 盛美半导体设备(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C25F3/16 | 分类号： | C25F3/16;C25F7/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 张振军 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区中*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种电化学抛光设备，包括：正极喷嘴，所述正极喷嘴由导电金属制成，所述正极喷嘴具有喷出抛光液的喷出部；负极喷嘴；护盖，所述护盖具有开口，该开口的形状与所述喷出部的形状匹配，所述开口周围具有凸缘，所述正极喷嘴的喷出部伸入所述开口并嵌套在所述凸缘包围的空间内，所述护盖由绝缘材料制成。本发明能够避免正极喷嘴被电蚀后导致的液柱形状不规则的问题，有利于改善抛光工艺效果。 | ||
| 搜索关键词： | 喷嘴 正极 喷出部 护盖 电化学抛光 开口 凸缘 嵌套 导电金属 绝缘材料 开口周围 抛光工艺 形状匹配 负极 不规则 抛光液 喷出 伸入 液柱 包围 | ||
【主权项】：
1.一种电化学抛光设备，包括：正极喷嘴，所述正极喷嘴由导电金属制成，所述正极喷嘴具有喷出抛光液的喷出部，所述正极喷嘴在工艺过程中被电蚀；负极喷嘴；供电部件，正极喷嘴与供电部件的正极电连接，负极喷嘴与供电部件的负极电连接；其特征在于，还包括：护盖，所述护盖具有开口，该开口的形状与所述喷出部的形状匹配，所述开口周围具有凸缘，所述正极喷嘴的喷出部伸入所述开口并嵌套在所述凸缘包围的空间内，所述护盖由绝缘材料制成。
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