[发明专利]凹槽底部抛光装置及方法有效

专利信息
申请号: 201410370595.X 申请日: 2014-07-30
公开(公告)号: CN105437095B 公开(公告)日: 2017-09-15
发明(设计)人: 姚力军;相原俊夫;大岩一彦;潘杰;王学泽;钟伟攀 申请(专利权)人: 宁波江丰电子材料股份有限公司
主分类号: B24D15/02 分类号: B24D15/02
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司11227 代理人: 高静,骆苏华
地址: 315400 浙江省宁波*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供了一种凹槽底部抛光装置及方法,所述凹槽底部抛光装置包括清洁头部;和装在所述清洁头部上的抛光片,所述抛光片的宽度小于所述凹槽宽度。使用时,所述清洁头部置于所述凹槽内,且所述抛光片与所述凹槽的底部相接触,基于所述抛光片的宽度小于所述凹槽宽度,从而避免采用抛光片对凹槽底部进行抛光时,抛光片容易和凹槽侧壁发生磨擦而致使凹槽侧壁局部受损且被拓宽的问题,进而减少造成凹槽不同部位宽度差异的缺陷,并降低在密封条嵌入凹槽后凹槽局部宽度差异而导致的密封条各部位表面平整度的差异,进而减小了密封条以及出现局部脱落的概率。
搜索关键词: 凹槽 底部 抛光 装置 方法
【主权项】:
一种凹槽底部抛光装置,用于对凹槽底部进行抛光处理,其特征在于,包括:清洁头部,用于在抛光处理过程中置于所述凹槽内,所述清洁头部采用弹性材料制成;装在所述清洁头部上的抛光片,所述抛光片的宽度小于或等于所述凹槽的宽度,用于对凹槽底部进行抛光。
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