[发明专利]显影方法和显影装置

摘要

本发明提供一种显影方法，用于进行显影，其包括：将曝光后的基板水平地保持在基板保持部上的步骤；从显影液喷嘴向基板的一部分供给显影液形成积液的步骤；使基板旋转的步骤；使上述显影液喷嘴移动，以使得进行旋转的上述基板上的显影液的供给位置沿着该基板的径向进行移动，从而使上述积液扩展到基板的整个表面的步骤；和与使上述积液扩展到基板的整个表面的步骤并行进行，使与上述显影液喷嘴一起移动的接触部与上述积液接触的步骤，其中，上述接触部与上述基板相对的面比上述基板的表面小。根据该方法能够抑制落到基板外的液体量。另外，由于能够降低基板的转速，所以，能够抑制液体飞溅。并且，通过搅拌显影液，能够提高处理能力。

主权项

1.一种显影方法，其特征在于，包括：/n将曝光后的基板水平地保持在基板保持部上的步骤；/n从显影液喷嘴向基板的一部分供给显影液形成积液的步骤；/n使基板旋转的步骤；/n使所述显影液喷嘴移动，以使得进行旋转的所述基板上的显影液的供给位置沿着该基板的径向进行移动，从而使所述积液扩展到基板的整个表面的步骤；和/n与使所述积液扩展到基板的整个表面的步骤并行进行，使与所述显影液喷嘴一起移动且与所述基板相对的相对面比所述基板的表面小的接触部的该相对面与所述积液接触的步骤，/n使所述积液扩展到基板的整个表面的步骤包括：/n第一步骤，向所述积液供给显影液，并且从所述基板的上方侧施加使所述积液绕与基板正交的轴进行旋转的作用，从而在该积液中的所述相对面的下方区域产生旋流；和/n第二步骤，与所述显影液喷嘴的移动并行进行，以所述相对面不超过在以100rpm以下的转速旋转的基板上扩展的所述积液的端部地追随所述积液的端部，直到所述基板的整个表面被积液覆盖为止的方式，使所述相对面从旋转的所述基板的中心部和周缘部中一者向另一者沿该基板的径向呈直线状地移动，使所述相对面的下方区域的所述旋流的产生位置沿着该基板的表面移动。/n