[发明专利]光照射装置以及光照射方法在审

专利信息
申请号: 201410385579.8 申请日: 2014-08-07
公开(公告)号: CN104347455A 公开(公告)日: 2015-02-11
发明(设计)人: 涩田浩二;上野隆 申请(专利权)人: 斯克林集团公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/26
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 金相允;向勇
地址: 日本京都*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种光照射装置以及光照射方法,能够不经由石英玻璃等透光板而向基体材料的主表面照射闪光,且能够抑制照射闪光的空间的容积。该光照射装置(1)利用基体材料(9)的主表面和在靠近基体材料(9)的主表面一侧形成有开口部(32)的框体(30),形成单一的闭合空间。然后,从配置在该密闭空间中的光照射部(20)向基体材料(9)的主表面(91)照射闪光。不经由石英玻璃等透光板而向基体材料(9)的主表面(91)照射闪光,因此能够抑制闪光的能量损失,并且能够抑制光照射装置(1)的制造成本。另外,能够抑制照射闪光的空间的容积。
搜索关键词: 照射 装置 以及 方法
【主权项】:
一种光照射装置,用于向基体材料的主表面照射闪光,其特征在于,具有:保持部,其保持所述基体材料;光照射部,其向由所述保持部保持的所述基体材料的主表面照射闪光;框体,其将所述光照射部容置在单一的内部空间内,并且在靠近所述基体材料一侧形成有开口部;密封构件,其设置在所述框体的所述开口部的周缘上;接触分离机构,其使所述基体材料以及所述密封构件进行相对移动,以使所述基体材料的主表面与所述密封构件接触以及分离。
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