[发明专利]半导体制造装置在审

专利信息
申请号: 201410406205.X 申请日: 2014-08-18
公开(公告)号: CN104916566A 公开(公告)日: 2015-09-16
发明(设计)人: 山下大辅 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 高迪
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 根据本发明,半导体制造装置具备切割部,该切割部在用于粘贴到晶圆上的贴片上形成切口,该切口用于切割出为了保护所述晶圆而使用的第一贴片和为了剥离所述第一贴片而使用的第二贴片。此外,所述半导体制造装置具备将所述第一贴片粘贴到所述晶圆上的粘贴部。
搜索关键词: 半导体 制造 装置
【主权项】:
一种半导体制造装置,具备:切割部,在用于粘贴到晶圆上的贴片上形成切口,该切口用于切割出为了保护所述晶圆而使用的第一贴片和为了剥离所述第一贴片而使用的第二贴片;以及粘贴部,将所述第一贴片粘贴到所述晶圆上。
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