[发明专利]具电性连接结构的基板及其制法有效

专利信息
申请号: 201410408637.4 申请日: 2014-08-19
公开(公告)号: CN105023906B 公开(公告)日: 2018-10-09
发明(设计)人: 吴柏毅;杨侃儒;黄晓君;庄建隆;马光华;卢俊宏 申请(专利权)人: 矽品精密工业股份有限公司
主分类号: H01L23/498 分类号: H01L23/498;H01L21/48
代理公司: 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 代理人: 程伟;王锦阳
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种具电性连接结构的基板及其制法,具电性连接结构的基板的制法,先提供一具有电性接触垫、设于其表面上且对应外露该电性接触垫的第一及第二钝化层的板体,再形成晶种层于该第二钝化层与该电性接触垫上。接着,形成第一金属层于该电性接触垫上且埋设于该第一与第二钝化层中,而未凸出该第二钝化层,再形成第二金属层于该第一金属层上且凸出该第二钝化层,以于之后蚀刻移除该第二钝化层上的晶种层时,蚀刻液不会侵蚀该第一金属层,因而该第二金属层下方不会产生底切结构。
搜索关键词: 钝化层 电性接触垫 第一金属层 连接结构 具电性 基板 制法 第二金属层 凸出 晶种层 蚀刻 底切结构 蚀刻液 外露 板体 移除 埋设 侵蚀
【主权项】:
1.一种具电性连接结构的基板,包括:板体,其具有多个电性接触垫;第一钝化层,其设于该板体上且覆盖各该电性接触垫的部分表面;第二钝化层,其设于该第一钝化层上且外露各该电性接触垫;第一金属层,其设于各该电性接触垫与第一钝化层上,并埋设于该第二钝化层中,而未凸出该第二钝化层;第二金属层,其设于该第一金属层上,并凸出该第二钝化层,且该第一金属层与第二金属层构成凸块底下金属层;以及设于该第二金属层上的导电凸块。
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