[发明专利]显影液喷嘴检验模板及方法有效

专利信息
申请号: 201410429457.4 申请日: 2014-08-28
公开(公告)号: CN105404101B 公开(公告)日: 2019-10-22
发明(设计)人: 易旭东;王跃刚 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: G03F7/30 分类号: G03F7/30
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 牛峥;王丽琴
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种显影液喷嘴检验模板及方法,检验模板包括至少一组形成在半导体基底上相互平行的切割道,以及在半导体基底表面与切割道交界处的条形光刻胶;每条切割道的宽度大于等于显影喷嘴宽度,且同组切割道中两相邻切割道的相邻边的距离等于两相邻显影喷嘴边缘之间的最短距离;在进行显影喷嘴检测时,将多个显影喷嘴与一组切割道中的多个切割道一一对准后,喷洒显影剂,通过观察喷洒显影液后的条形光刻胶是否存在过显影缺陷即可判断出其临近的切割道所对应的显影喷嘴发生损伤,进而实现了对显影喷嘴是否发生损坏进行检验的同时,对损坏的显影喷嘴进行准确定位的目的。
搜索关键词: 切割道 显影喷嘴 显影液喷嘴 条形光 检验 喷洒 半导体基底表面 半导体基底 显影缺陷 准确定位 最短距离 交界处 显影剂 显影液 相邻边 同组 平行 对准 损伤 检测 观察
【主权项】:
1.一种显影喷嘴检验模板,用于对显影喷嘴进行检测,所述显影喷嘴的数量为多个,所述显影喷嘴设置于水平延伸的喷淋管上,且在喷淋管延伸方向上等间隔排列;其特征在于,所述显影喷嘴检验模板包括半导体基底以及图案化光刻胶;其中,所述半导体基底上形成有至少一组相互平行的切割道,每条所述切割道的宽度大于等于所述显影喷嘴宽度,且同组切割道中两相邻切割道的相邻边的距离等于两相邻所述显影喷嘴边缘之间的最短距离;所述图案化光刻胶形成于所述切割道之间的半导体基底表面,所述图案化光刻胶包括形成于半导体基底表面与切割道交界处的条形光刻胶。
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