[发明专利]一种图案化石墨烯制作方法、阵列基板以及显示装置

摘要

本发明实施例提供了一种图案化石墨烯制作方法、阵列基板以及显示装置，属于电极材料领域，以解决光刻法制作图案化石墨烯时方阻变化较大的问题。所述图案化石墨烯制作方法，包括将图案化石墨烯置于酸性刻蚀液中浸泡，以降低所述图案化石墨烯的方阻。本发明可用于光刻法制作图案化石墨烯的方法中。

主权项

一种图案化石墨烯制作方法，其特征在于，包括：将石墨烯转移至聚对苯二甲酸乙二醇酯膜上，然后用高温胶带将其贴服在玻璃基底上；对贴服有石墨烯的玻璃基底进行光刻工艺，以在所述玻璃基底上形成有光刻胶图案；对所述形成有光刻胶图案的玻璃基底进行干法刻蚀，以除去未被光刻胶图案覆盖的石墨烯；待干法刻蚀完毕后，剥离除去玻璃基底上的光刻胶，以得到图案化石墨烯；将所述图案化石墨烯置于酸性刻蚀液中浸泡，以降低浸泡后的所述图案化石墨烯的方阻、并获得精细化的图案化石墨烯。