[发明专利]处理基板的装置和清洁该装置的方法

摘要

提供用于处理基板的装置，该基板包括基板放置在其上的转盘头，被设置为围绕转盘头的容器，向下供应处理溶液的上管口部件，与转盘头的底部相距一定距离而定位的底部清洁部件，其中底部清洁部件将清洁容易喷射至转盘头的底部。

主权项

一种处理基板的装置，所述装置包括：转盘头，在所述转盘头上放置基板；容器，所述容器被设置为围绕转盘头；上管口部件，所述上管口部件向下供应的处理溶液；底部清洁部件，所述底部清洁部件与所述转盘头的底部相距一定距离定位，其中底部清洁部件将冲洗溶液喷射至所述转盘头的底部，其中，所述底部清洁部件包括：支撑臂，所述支撑臂与所述转盘头的底部相距一定距离定位；和第一清洁管口，所述第一清洁管口设置在所述支撑臂上以面对所述转盘头的底部，其中，所述底部清洁部件进一步包括：二级支撑臂，所述二级支撑臂与所述转盘头的底部相距一定距离定位，其中，所述二级支撑臂短于所述支撑臂；和第二清洁管口，所述第二清洁管口设置在二级支撑臂上，比所述第一清洁管口更靠近所述转盘头的中央部分。