[发明专利]具有高开口率的像素结构及电路有效

专利信息
申请号: 201410443931.9 申请日: 2014-09-02
公开(公告)号: CN104157678B 公开(公告)日: 2017-10-13
发明(设计)人: 李文辉;罗长诚;曾志远;胡宇彤 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32
代理公司: 深圳市德力知识产权代理事务所44265 代理人: 林才桂
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种具有高开口率的像素结构及电路。该具有高开口率的像素结构的第一栅极(21)、第一源/漏极(61)与夹在二者之间的蚀刻阻挡层(5)、第一半导体层(41)与栅极绝缘层(3)构成第一薄膜晶体管(TFT1);第二栅极(22)、第二源/漏极(62)与夹在二者之间的蚀刻阻挡层(5)、第二半导体层(42)与栅极绝缘层(3)构成第二薄膜晶体管(TFT2);透明电极(8)、像素电极(10)与夹在二者之间的平坦绝缘层(9)构成一透明电容(C),且所述透明电容(C)构成该像素结构的有效显示部分,能够显著增加像素的有效显示面积,提高开口率,提高显示亮度,降低功耗。
搜索关键词: 具有 开口 像素 结构 电路
【主权项】:
一种具有高开口率的像素结构,其特征在于,具有一基板(1);于该基板(1)一侧设于其上的第一栅极(21)与第二栅极(22);设于第一、第二栅极(21、22)及基板(1)上的栅极绝缘层(3),该栅极绝缘层(3)完全覆盖第一栅极(21)与基板(1),而暴露出第二栅极(22)的两端;于第一栅极(21)正上方设于栅极绝缘层(3)上的第一半导体层(41);于第二栅极(22)正上方设于栅极绝缘层(3)上的第二半导体层(42);设于第一、第二半导体层(41、42)与栅极绝缘层(3)上的蚀刻阻挡层(5);设于第一半导体层(41)与蚀刻阻挡层(5)上的第一源/漏极(61),设于第二半导体层(42)与蚀刻阻挡层(5)上的第二源/漏极(62),第一源/漏极(61)搭接第一半导体层(41)及第二栅极(22)的一端,第二源/漏极(62)搭接第二半导体层(42);设于第一、第二源/漏极(61、62)及蚀刻阻挡层(5)上的保护层(7);于基板(1)另一侧设于保护层(7)上的透明电极(8),该透明电极(8)搭接第二栅极(22)的另一端;设于保护层(7)与透明电极(8)上的平坦绝缘层(9);设于平坦绝缘层(9)上的像素电极(10),该像素电极(10)搭接第二源/漏极(62)并与透明电极(8)重叠;设于平坦绝缘层(9)与像素电极(10)上的像素定义层(11),该像素定义层(11)对应于像素电极(10)与透明电极(8)的重叠区域开口;所述第一栅极(21)、第一源/漏极(61)与夹在二者之间的蚀刻阻挡层(5)、第一半导体层(41)与栅极绝缘层(3)构成第一薄膜晶体管(TFT1);所述第二栅极(22)、第二源/漏极(62)与夹在二者之间的蚀刻阻挡层(5)、第二半导体层(42)与栅极绝缘层(3)构成第二薄膜晶体管(TFT2);所述透明电极(8)、像素电极(10)与夹在二者之间的平坦绝缘层(9)构成一透明电容(C)。
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