[发明专利]具有高开口率的像素结构及电路有效
申请号: | 201410443931.9 | 申请日: | 2014-09-02 |
公开(公告)号: | CN104157678B | 公开(公告)日: | 2017-10-13 |
发明(设计)人: | 李文辉;罗长诚;曾志远;胡宇彤 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32 |
代理公司: | 深圳市德力知识产权代理事务所44265 | 代理人: | 林才桂 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种具有高开口率的像素结构及电路。该具有高开口率的像素结构的第一栅极(21)、第一源/漏极(61)与夹在二者之间的蚀刻阻挡层(5)、第一半导体层(41)与栅极绝缘层(3)构成第一薄膜晶体管(TFT1);第二栅极(22)、第二源/漏极(62)与夹在二者之间的蚀刻阻挡层(5)、第二半导体层(42)与栅极绝缘层(3)构成第二薄膜晶体管(TFT2);透明电极(8)、像素电极(10)与夹在二者之间的平坦绝缘层(9)构成一透明电容(C),且所述透明电容(C)构成该像素结构的有效显示部分,能够显著增加像素的有效显示面积,提高开口率,提高显示亮度,降低功耗。 | ||
搜索关键词: | 具有 开口 像素 结构 电路 | ||
【主权项】:
一种具有高开口率的像素结构,其特征在于,具有一基板(1);于该基板(1)一侧设于其上的第一栅极(21)与第二栅极(22);设于第一、第二栅极(21、22)及基板(1)上的栅极绝缘层(3),该栅极绝缘层(3)完全覆盖第一栅极(21)与基板(1),而暴露出第二栅极(22)的两端;于第一栅极(21)正上方设于栅极绝缘层(3)上的第一半导体层(41);于第二栅极(22)正上方设于栅极绝缘层(3)上的第二半导体层(42);设于第一、第二半导体层(41、42)与栅极绝缘层(3)上的蚀刻阻挡层(5);设于第一半导体层(41)与蚀刻阻挡层(5)上的第一源/漏极(61),设于第二半导体层(42)与蚀刻阻挡层(5)上的第二源/漏极(62),第一源/漏极(61)搭接第一半导体层(41)及第二栅极(22)的一端,第二源/漏极(62)搭接第二半导体层(42);设于第一、第二源/漏极(61、62)及蚀刻阻挡层(5)上的保护层(7);于基板(1)另一侧设于保护层(7)上的透明电极(8),该透明电极(8)搭接第二栅极(22)的另一端;设于保护层(7)与透明电极(8)上的平坦绝缘层(9);设于平坦绝缘层(9)上的像素电极(10),该像素电极(10)搭接第二源/漏极(62)并与透明电极(8)重叠;设于平坦绝缘层(9)与像素电极(10)上的像素定义层(11),该像素定义层(11)对应于像素电极(10)与透明电极(8)的重叠区域开口;所述第一栅极(21)、第一源/漏极(61)与夹在二者之间的蚀刻阻挡层(5)、第一半导体层(41)与栅极绝缘层(3)构成第一薄膜晶体管(TFT1);所述第二栅极(22)、第二源/漏极(62)与夹在二者之间的蚀刻阻挡层(5)、第二半导体层(42)与栅极绝缘层(3)构成第二薄膜晶体管(TFT2);所述透明电极(8)、像素电极(10)与夹在二者之间的平坦绝缘层(9)构成一透明电容(C)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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