[发明专利]一种低温多晶硅薄膜的制备机构及方法

摘要

本发明实施例公开了一种低温多晶硅薄膜的制备机构及方法，其中，该制备机构包括对玻璃基板进行清洗的基板清洗槽、臭氧气体生成装置，基板清洗槽通过气体传输管直接与臭氧气体生成装置连接，不仅可以将清洗后的玻璃基板表面的残留药液吹掉，还可以让清洗后的玻璃基板直接接触臭氧气体，使得玻璃基板表面的硅膜更加平滑无杂质，经过氢氟酸后第一时间接触臭氧气体使表面形成的氧化膜更加均匀，从而使激光退火处理得到的低温多晶硅薄膜的结晶效果更加优异；并且，该制备机构设计简单，大大的节省了制备成本。

主权项

一种低温多晶硅薄膜的制备机构，其特征在于，所述制备机构包括：一基板清洗槽，用于对玻璃基板进行清洗；一臭氧气体生成装置，用于生成臭氧气体；一气体传输管，包括输入端和输出端，所述输入端与所述臭氧气体生成装置相连，所述输出端与所述基板清洗槽相连，并连接至所述基板清洗槽内的玻璃基板的上方；其中，当玻璃基板在所述基板清洗槽进行清洗后，所述气体传输管用于将所述臭氧气体生成装置生成的臭氧气体向所述基板清洗槽内传输，以在清洗后的玻璃基板表面吹出臭氧气体；一激光退火处理装置，用于对玻璃基板进行激光退火处理，以在玻璃基板的表面形成低温多晶硅薄膜。