[发明专利]图案形成方法和磁记录介质的制造方法在审
| 申请号： | 201410454113.9 | 申请日： | 2014-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN105006238A | 公开（公告）日： | 2015-10-28 |
| 发明（设计）人： | 木村香里;藤本明;渡部彰 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | G11B5/667 | 分类号： | G11B5/667;G11B5/851 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 刘航;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的实施方式提供能够形成面内均匀性良好的周期性图案的图案形成方法和磁记录介质的制造方法。根据实施方式，能够提供一种图案形成方法，该方法包括：在基板上，向具有表面极性与该基板相近的第1保护基、且至少在表面具有选自Al、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Zn、Y、Zr、Sn、Mo、Ta、W、Au、Ag、Pd、Cu、Pt、及其氧化物中的材料的微粒添加第2保护基和第2溶剂，调制第2分散液，并用该第2保护基修饰具有第1保护基的微粒的工序；向包含具有第1保护基和第2保护基的微粒的分散液添加粘度调整剂，调制微粒涂布液的工序；以及，涂布微粒涂布液，在基板上形成微粒层的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 方法 记录 介质 制造 | ||
【主权项】：
一种磁记录介质的制造方法，其特征在于，具备：在基板上，向具有表面极性与该基板相近的第1保护基、且至少在表面具有选自铝、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、锌、钇、锆、锡、钼、钽、钨、金、银、钯、铜、铂、及其氧化物中的材料的微粒添加第2保护基和第2溶剂，调制第2分散液的工序；在该第2分散液中用该第2保护基修饰具有该第1保护基的微粒，形成具有该第1保护基和第2保护基的微粒的工序；向包含具有该第1保护基和第2保护基的微粒的分散液添加粘度调整剂，调制微粒涂布液的工序；涂布该微粒涂布液，在所述基板上形成单层的微粒层的工序；以及在由所述微粒构成的周期性图案上形成磁记录层的工序。
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