[发明专利]液处理装置

摘要

本发明提供一种能够将杯体的周围的气氛维持为清洁的状态的液处理装置。液处理装置(16)用于对旋转的基板(W)供给处理液来进行液处理，包围构件(20、23、24)在比上述杯体(50)靠外侧的位置将包括包围旋转的基板(W)并在上方设有开口的杯体(50)的上方空间在内的区域包围。气流形成部(21)从杯体(50)的上侧起形成下降气流，板部(28)沿着周向堵塞杯体(50)和包围构件(20、23、24)之间的间隙。在比杯体(50)靠外侧的位置设有排气口(241、231)，用于对比位于板部(28)上方的被包围构件(20、23、24)和板部(28)包围的区域进行排气。

主权项

1.一种液处理装置，其将基板保持于旋转自如的基板保持部，并对基板供给处理液来进行液处理，其特征在于，该液处理装置包括：杯体，其包围上述基板保持部，并在基板上方设有开口；包围构件，其在比上述杯体靠外侧的位置将包括上述杯体的上方空间在内的区域包围；气流形成部，其用于从上述杯体的上侧起在杯体内形成下降气流；板部，其沿着上述杯体的周向设置，堵塞上述杯体和上述包围构件之间的间隙；排气口，其为了对位于上述板部上方的被上述包围构件和上述板部包围的区域进行排气而设于比上述杯体靠外侧的位置；以及处理液供给机构，其包括：喷嘴部，其用于向基板供给处理液；喷嘴臂，上述喷嘴部保持于该喷嘴臂的顶端部；以及旋转驱动部，其设于上述喷嘴臂的基端部，用于驱动上述喷嘴臂而使上述喷嘴臂以该基端部为中心进行旋转，从而使上述喷嘴部在被保持于上述基板保持部的基板的上方的处理位置和从该处理位置退避开的退避位置之间移动，其中，上述退避位置被设定于上述处理液供给机构的喷嘴臂处于该退避位置时该喷嘴臂沿着上述包围构件延伸的位置，上述排气口配置在使上述喷嘴臂退避到该退避位置的上述处理液供给机构和上述包围构件之间，上述排气口的长度形成得比从上述顶端部到上述基端部的距离长，并且沿着在使上述喷嘴臂退避到上述退避位置时的从上述顶端部到上述基端部的区域配置上述排气口，因在上述液处理装置对上述基板进行处理时产生的涡流而向比上述杯体靠外方的位置流出的气流沿着上述板部的上表面向上述排气口引导。