[发明专利]一种无压烧结连接大功率GTO模块的方法有效
申请号: | 201410470189.0 | 申请日: | 2014-09-15 |
公开(公告)号: | CN104319241B | 公开(公告)日: | 2017-01-18 |
发明(设计)人: | 梅云辉;李万里;陆国权;李欣 | 申请(专利权)人: | 天津大学 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60 |
代理公司: | 天津市北洋有限责任专利代理事务所12201 | 代理人: | 王丽 |
地址: | 300072 天*** | 国省代码: | 天津;12 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种无压烧结连接大功率GTO模块的方法;以钛为中间金属层,利用磁控溅射设备实现钼基板表面镀银,接着通过纳米银焊膏低温无压烧结实现芯片与基板大面积互连。对钼基板进行等离子清洗,实现表面清洁活化;通过磁控溅射设备依次镀钛和银,将试样在氮气或者惰性气体下进行热处理保证镀膜的稳定性。镀银膜的厚度可通过镀膜功率和镀膜时间来调节。钛作为金属过渡层可以克服由于银和钼互不固溶体造成的无法在钼上镀银的问题。烧结后的银接头具有高的导电性能(4.10×107S m‐1)和导热性能(240W K‐1m‐1);烧结后的银接头可耐高温(<960℃),进一步提高了模块的应用温度范围。 | ||
搜索关键词: | 一种 烧结 连接 大功率 gto 模块 方法 | ||
【主权项】:
一种无压烧结连接大功率GTO模块的方法,其特征是以钛为中间金属层,利用磁控溅射设备实现钼基板表面镀银,接着通过纳米银焊膏低温无压烧结实现芯片与基板大面积互连;具体步骤如下:(1)对钼基板进行预处理,去除表面污染物,使表面清洁;(2)进行镀膜,在钼基板上依次镀钛膜和银膜;(3)对镀膜试样进行退火处理,随炉冷,保护气氛为高纯度≥99.99%在氮气或惰性气体氩气;(4)使用纳米银焊膏作为互连材料,焊膏涂抹厚度为30‑90um,芯片与基板的连接面积为314‑1256mm2,将互连接头放在加热台或者加热炉中,实现芯片与基板的低温无压烧结互连,其升温速率为3‑8℃/min,加热到250‑320℃,保温5‑30min;芯片与钼基板实现连接,中间的焊膏层的厚度降为15‑45um。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津大学,未经天津大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410470189.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造