[发明专利]描绘装置、基板处理系统以及描绘方法有效
申请号: | 201410476862.1 | 申请日: | 2014-09-18 |
公开(公告)号: | CN104991420B | 公开(公告)日: | 2018-09-14 |
发明(设计)人: | 八坂智 | 申请(专利权)人: | 斯克林集团公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 金相允;向勇 |
地址: | 日本国京*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明描绘装置、基板处理系统以及描绘方法。在该基板处理系统中,描绘装置通过控制拍摄部以及移动机构,拍摄基板的各描绘区域的多个定位标记。在合格与否信息取得部中,基于拍摄部的拍摄结果,判定各描绘区域的位置或畸变的合格与否信息。并且,通过控制描绘头以及移动机构,仅对判定为良好的正常描绘区域描绘电路图案。这样,在描绘装置中,通过判定基板上的多个描绘区域的合格与否信息,将判定结果用于紧随之后的电路图案的描绘工序,从而能够缩短对基板描绘电路图案所需要的时间。 | ||
搜索关键词: | 描绘 装置 处理 系统 以及 方法 | ||
【主权项】:
1.一种描绘装置,对基板照射光来描绘电路图案,其特征在于,具有:基板保持部,其保持设定有多个描绘区域的基板;拍摄部,其拍摄在各描绘区域中设定的多个定位标记;合格与否信息取得部,其基于所述拍摄部对所述各描绘区域的拍摄结果,取得所述多个定位标记在所述基板上的位置,根据所述多个定位标记的位置与设计上的基准位置之间的偏离量是否在允许范围内,判定所述各描绘区域的位置或畸变的合格与否信息;描绘头,其对所述基板照射被调制后的光;移动机构,其通过使所述基板与所述基板保持部一起相对于所述描绘头移动,使来自所述描绘头的光的照射区域在所述基板上扫描;描绘控制部,其通过控制所述描绘头以及所述移动机构,仅对被所述合格与否信息取得部判定为良好的描绘区域即正常描绘区域描绘电路图案。
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