[发明专利]一种合金表面铬硅共渗渗剂及涂层制备方法有效
申请号: | 201410487150.X | 申请日: | 2014-09-22 |
公开(公告)号: | CN104264109B | 公开(公告)日: | 2017-01-04 |
发明(设计)人: | 刘京雷;屈笑雨;徐宏;黄志荣;万顺;陆阳 | 申请(专利权)人: | 华东理工大学 |
主分类号: | C23C10/54 | 分类号: | C23C10/54 |
代理公司: | 上海三和万国知识产权代理事务所(普通合伙)31230 | 代理人: | 朱小晶 |
地址: | 200237 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种合金表面铬硅共渗渗剂及涂层制备方法,渗剂包括以下重量百分比的组分粉末:铬:12~25%;硅铁合金:5%~20%;钛:1%~5%;活化剂:0.5%~3.5%;碱土金属氧化物:5%~10%;氧化铝:余量;制备方法:首先按比例称取各组分粉末,将其搅拌混合均匀后放入渗箱中;将除油除锈后的待渗工件埋入渗剂中并压实,用耐火泥密封渗箱,在100℃~120℃烘干1~2小时;渗箱置入马弗炉中加热到800℃~1250℃保温5~10小时,在合金表面获得致密无孔隙的铬硅涂层。该发明获得的涂层结构均匀致密、无孔隙,具有优异的耐高温、抗氧化、抗渗碳及抑制铁镍元素催化效应等性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 合金 表面 铬硅共渗渗剂 涂层 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种合金表面铬硅共渗渗剂,其特征在于,其包括以下重量百分比的组分粉末:铬:12~25%;硅铁合金:5%~20%;钛:1~5%;碱土金属氧化物:5~10%;活化剂:0.5~3.5%;氧化铝:余量。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华东理工大学,未经华东理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410487150.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种截止波导通风窗与电磁屏蔽门组合使用的电磁屏蔽窗
- 下一篇:一种防偷窥窗户
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C10-00 金属材料表面中仅渗入金属元素或硅的固渗
C23C10-02 .被覆材料的预处理
C23C10-04 .局部表面上的扩散处理,例如使用掩蔽物
C23C10-06 .使用气体的
C23C10-18 .使用液体,例如盐浴、悬浮液的
C23C10-28 .使用固体,例如粉末、膏剂的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C10-00 金属材料表面中仅渗入金属元素或硅的固渗
C23C10-02 .被覆材料的预处理
C23C10-04 .局部表面上的扩散处理,例如使用掩蔽物
C23C10-06 .使用气体的
C23C10-18 .使用液体,例如盐浴、悬浮液的
C23C10-28 .使用固体,例如粉末、膏剂的