[发明专利]透明导电膜的制程在审
| 申请号： | 201410493156.8 | 申请日： | 2014-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN105513710A | 公开（公告）日： | 2016-04-20 |
| 发明（设计）人： | 李炳寰;谢文俊 | 申请（专利权）人： | 亚树科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01B13/00 | 分类号： | H01B13/00;C23C4/12;C23C4/04;H01B5/14 |
| 代理公司： | 北京泰吉知识产权代理有限公司 11355 | 代理人： | 张雅军 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种透明导电膜的制程，包含：准备材料步骤：准备一表面设置有一导电层的透明基材。熔喷步骤：将一高分子材料以熔喷方式沉积至该导电层上，形成一由数条纤维构成的网状层。蚀刻导电层步骤：将该导电层未受该网状层覆盖的部分蚀刻移除。移除网状层步骤：移除该网状层，并得到一透明导电膜。本制程无需高温处理，故在制造的过程中不会有该透明基材劣化变质的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 透明 导电 | ||
【主权项】：
一种透明导电膜的制程，该制程包含准备材料步骤：准备一个表面设置有一层导电层的透明基材；其特征在于：该制程还包含熔喷步骤：将一个高分子材料以熔喷方式沉积至该导电层上，并形成一层由数条纤维构成的网状层；蚀刻导电层步骤：将该导电层未受该网状层覆盖的部分蚀刻移除；及移除网状层步骤：移除该网状层，并得到一片透明导电膜。
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