[发明专利]溶液制膜方法及设备有效
申请号: | 201410504406.3 | 申请日: | 2014-09-26 |
公开(公告)号: | CN104513400B | 公开(公告)日: | 2018-11-06 |
发明(设计)人: | 金村一秀 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | C08J5/18 | 分类号: | C08J5/18;C08J3/28;C08L1/12;C08K5/523 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 臧建明 |
地址: | 日本东京港区*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种溶液制膜方法及设备,在生产薄膜的情况下,可在不产生厚度不均或起泡的情况下以比较短的时间使流延膜干燥。流延膜(45)的干燥是通过照射红外线来进行的。将此时的流延膜(45)的膜面附近的气体环境的风速抑制在2.0m/s以下。红外线的照射以使流延膜(45)的膜面上的第1位置上的膜面温度(T1)成为第2位置上的支撑体温度(T2)以上的方式进行,所述第2位置位于未形成流延膜(45)的流延带(42)上的较第1位置更靠宽度方向外侧的位置。进行红外线的照射至流延膜(45)中的溶剂的残留量成为100质量%以下。 | ||
搜索关键词: | 溶液 方法 设备 | ||
【主权项】:
1.一种溶液制膜方法,其特征在于包括:流延膜形成步骤,将包含聚合物及溶剂的浓液流延至支撑体的表面而形成流延膜;红外线照射干燥步骤,在风速被抑制在2.0m/s以下的气体环境中,通过对所述流延膜照射红外线而对所述流延膜加热,一面将所述流延膜的膜面上的第1位置上的膜面温度T1保持在第2位置上的支撑体温度T2以上,一面对所述流延膜干燥而使所述流延膜中的所述溶剂的残留量为100质量%以下,所述第2位置位于未形成所述流延膜的所述支撑体上的较所述第1位置更靠宽度方向外侧的位置;剥离步骤,将所述溶剂的残留量成为100质量%以下的所述流延膜从所述支撑体剥离而制成湿润膜;以及膜干燥步骤,对剥离的所述湿润膜干燥而制成膜,其中所述溶液制膜方法不包括热风干燥步骤。
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