[发明专利]一种双核铜配合物的应用无效

专利信息
申请号: 201410519062.3 申请日: 2014-10-06
公开(公告)号: CN104327102A 公开(公告)日: 2015-02-04
发明(设计)人: 张秀清;范超逸;黎燕;张淑华 申请(专利权)人: 桂林理工大学
主分类号: C07F1/08 分类号: C07F1/08
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 541004 广*** 国省代码: 广西;45
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摘要: 发明公开了一种双核铜配合物的应用。该双核铜配合物的分子结构图为:;上述双核铜配合物应用于切割质粒DNA。本发明的双核铜配合物具有核酸酶活性,能够在一定程度上切割DNA,对探索金属配合物与DNA的作用以及设计新的DNA结构探针等方面具有一定的指导意义。
搜索关键词: 一种 双核铜 配合 应用
【主权项】:
一种双核铜配合物的应用,该双核铜配合物由以下步骤制成:(1)将1毫摩尔四氮唑‑5‑甲酸乙酯溶于10毫升蒸馏水中,加入1毫摩尔KOH,室温下搅拌3小时,制得溶液;(2)往步骤(1)制得的溶液中加入0.5毫摩尔CuCl2·2H2O,室温下搅拌2小时,得到蓝色混浊液;(3)将步骤(2)制得的蓝色混浊液过滤,得蓝色滤液,室温下自然挥发,三周后析出蓝色块状晶体,即为双核铜配合物,其分子结构图为:;所述双核铜配合物的分子中,配体通过环上的一个氮N1和羧基的一个氧O1以螯合形式与Cu1配位,同时,通过另一个氮N2连接Cu1A,以μ2形式参与配位;中心二价离子Cu1分别与来自一个配体羧基的氧原子O1,四氮唑环上的N1和N2A原子,以及两个水分子进行配位,配位数为五;按照Addison/Reedijk几何标准,τ = 0.049,说明配位原子在Cu1周围形成一个畸变的四方锥构型;N1、O1、O4、N2A构成四方锥的底面,第五个配位点被另一个氧原子O3占据,铜离子距离四方锥赤道平面的距离为0.0560 Å,铜离子之间的距离为4.0573 Å,赤道平面上Cu‑O和Cu‑N的平均键长分别是1.9809(17) Å和1.9935(2) Å,轴向位置Cu‑O键长则是2.3376(17) Å,N1N2N2AN1A的平均偏离是0 Å,说明这个桥联环是共平面的,其特征在于该双核铜配合物应用于切割质粒DNA。
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