[发明专利]真空蒸镀装置用岐管有效
| 申请号： | 201410520985.0 | 申请日： | 2014-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN104561903B | 公开（公告）日： | 2019-01-15 |
| 发明（设计）人： | 松本祐司;西村刚;大工博之 | 申请（专利权）人： | 日立造船株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人： | 鹿屹;李雪春 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种提高蒸镀材料的利用效率的真空蒸镀装置用岐管。该真空蒸镀装置用岐管是联机式真空蒸镀装置用岐管，在单一岐管(11)的与基板(12)相对的基板对置面(11a)上设置有喷嘴列(14F、14R)，上述喷嘴列(14F、14R)沿基板(12)的宽度方向隔开规定的喷嘴间距(P)突出设置多个具有喷嘴口的喷出用喷嘴(13)，并且将喷嘴列(14F、14R)在基板(12)的移动方向上隔开规定的喷嘴列间隔(Lp)进行配置，基板(12)移动方向后方的喷嘴列(14R)的喷出用喷嘴(13)与基板(12)移动方向前方的喷嘴列(14F)的喷出用喷嘴(13)在基板(12)的移动方向上相对配置。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 装置 用岐管 | ||
【主权项】：
1.一种真空蒸镀装置用岐管，为联机式真空蒸镀装置用岐管，与以固定速度移动的被蒸镀基材相对配置，从设置在对置面上的多个喷嘴口喷出蒸镀材料，并使所述蒸镀材料附着在被蒸镀基材的表面上，所述真空蒸镀装置用岐管的特征在于，在单一岐管的与被蒸镀基材相对的对置面上设置有喷嘴列，所述喷嘴列沿被蒸镀基材的宽度方向隔开规定的喷嘴间距突出设置多个具有所述喷嘴口的喷出用喷嘴，并且多列所述喷嘴列沿被蒸镀基材的移动方向隔开规定间隔配置，被蒸镀基材移动方向前方的喷嘴列的喷出用喷嘴和后方的喷嘴列的喷出用喷嘴在被蒸镀基材的移动方向上相对配置，当喷出用喷嘴的喷嘴内径为D、喷嘴长度为L、喷嘴口的口径为D’时，D’≥1mm，并且在L≥9×D时满足D’≤2.7×D2/L，在L＜9×D时满足D’≤D/3。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日立造船株式会社，未经日立造船株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410520985.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：有机物沉积装置及有机物沉积方法
- 下一篇：用于高强度铝的人工时效处理
- 同类专利
- 专利分类
