[发明专利]光学装置、摄像装置以及光学元件的驱动方法有效
申请号: | 201410525671.X | 申请日: | 2014-10-08 |
公开(公告)号: | CN104570533B | 公开(公告)日: | 2020-01-21 |
发明(设计)人: | 加藤惠介;都甲康夫;小林范久 | 申请(专利权)人: | 斯坦雷电气株式会社;国立大学法人千叶大学 |
主分类号: | G02F1/1506 | 分类号: | G02F1/1506;G02F1/155;G02F1/163 |
代理公司: | 11127 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 李辉;于英慧 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供光学装置、摄像装置以及光学元件的驱动方法。其中,光学装置具有第1基板和第2基板,它们相对配置,该第1基板包含设置在靠近该第2基板的表面上的第1电极,该第2基板包含设置在靠近该第1基板的表面上的第2电极;以及电解质层,其被所述第1基板和所述第2基板夹持,包含含银的电沉积材料,在第1期间中,所述电解质层被施加第1极性的直流电压,在所述第1期间之后的第2期间中,所述电解质层被间歇地施加所述第1极性的电压。 | ||
搜索关键词: | 第1基板 第2基板 电解质层 光学装置 电极 施加 电沉积材料 光学元件 摄像装置 相对配置 直流电压 含银 夹持 驱动 | ||
【主权项】:
1.一种光学装置,其包含:/n第1基板和第2基板,它们相对配置,该第1基板包含设置在靠近该第2基板的表面上的第1电极,该第2基板包含设置在靠近该第1基板的表面上的第2电极;/n电解质层,其被所述第1基板和所述第2基板夹持,包含含银的电沉积材料;以及/n电源,其与所述第1电极和所述第2电极连接,能够经由该第1电极和第2电极对所述电解质层施加电压,在第1期间中,对该电解质层施加第1极性的直流电压,在该第1期间之后的第2期间中,对该电解质层间歇地施加所述第1极性的电压,由此能够长时间地保持刚施加所述直流电压后的所述光学装置的光透射率特性,/n通过调整所述第1期间的长度、在所述第2期间施加的所述电压的周期和占空比,改变所述光学装置的长时间保持的、刚施加所述直流电压后的所述光学装置的光透射率。/n
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