[发明专利]薄型化高传输电磁吸收屏蔽膜及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201410545233.X 申请日: 2014-10-15
公开(公告)号: CN105578851A 公开(公告)日: 2016-05-11
发明(设计)人: 林志铭;洪金贤;王俊;周敏 申请(专利权)人: 昆山雅森电子材料科技有限公司
主分类号: H05K9/00 分类号: H05K9/00
代理公司: 昆山四方专利事务所 32212 代理人: 盛建德
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种薄型化高传输电磁吸收屏蔽膜由绝缘层、电磁波吸收层、电磁波屏蔽层、导电胶粘层和离型膜依次叠合构成,是在绝缘层上溅镀一层磁性吸波材料构成电磁波吸收层,并在此电磁波吸收层上再行溅镀一层金属构成电磁波屏蔽层,再将低介电常数的导电胶粘层涂布于电磁波屏蔽层上,再行贴合离型膜,制得的屏蔽膜具有超高屏蔽性,柔软性、抗化性佳、电气特性佳、可挠性佳,传输质量和速度高,优于传统PI保护膜、感光型PI保护膜、非感光型PI保护膜及一般的屏蔽膜,适用于手机、平板电脑等包含了很多天线的手持设备的应用,使之在很小的空间内互相之间不受干扰,从而取代一般屏蔽膜材料。
搜索关键词: 薄型化高 传输 电磁 吸收 屏蔽 及其 制造 方法
【主权项】:
一种薄型化高传输电磁吸收屏蔽膜,其特征在于:由绝缘层(1)、电磁波吸收层(2)、电磁波屏蔽层(3)、导电胶粘层(4)和离型膜(5)依次叠合构成。
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