[发明专利]一种空腔结构的ZSM‑35类型分子筛的制备方法

摘要

本发明公开了一种空腔结构的ZSM‑35类型分子筛的制备方法，包括如下内容（1）在超声及物理搅拌的共同作用的条件下，将铝源、硅源、碱、水及模板剂原料混合均匀；（2）将混合物在超声分散和物理搅拌共同作用下继续混合老化；（3）将物料置于反应釜中高温晶化；（4）将反应体系缓慢降温，降温结束后，通过反应釜减压阀缓慢释放水蒸气，降低H2O/SiO2的摩尔比，然后低温晶化，最终晶化产物经洗涤、干燥和焙烧，得到中空聚集形态的ZSM‑35分子筛。本发明分子筛中空颗粒制备简单、所得结构有利于物料传质，不使用特殊有机物，产生的排放物少，对环境污染小。

主权项

一种空腔结构的ZSM‑35类型分子筛的制备方法，其特征在于包括如下内容：（1）在超声分散及物理搅拌的共同作用的条件下，将铝源、硅源、碱、水及模板剂原料混合均匀；（2）将步骤（1）中的混合物在超声分散和物理搅拌共同作用下继续混合老化；（3）将步骤（2）得到的物料置于反应釜中高温晶化；（4）将反应体系缓慢降温，降温结束后，通过反应釜减压阀缓慢释放水蒸气，降低反应体系中H2O/SiO2的摩尔比，然后低温晶化，最终晶化产物经洗涤、干燥和焙烧，得到中空聚集形态的ZSM‑35分子筛；步骤（1）中所述物料中铝源、硅源、碱源、水和模板剂以下列物质计，比例关系如下：SiO2/Al2O3摩尔比为20‑35模板剂/SiO2摩尔比为0.4‑1.0H2O/SiO2摩尔比为25‑55OH‑/SiO2摩尔比为0.10‑0.15；其中所述的模板剂为环己胺和/或乙二胺；步骤（3）中所述的高温晶化条件为：晶化温度为160‑185℃，晶化时间为12‑120小时；步骤（4）所述的低温晶化时间为0.5‑6小时，晶化温度即为反应体系缓慢降温结束后的温度。