[发明专利]提高并联功率MOSFET均流性能的方法及其实现装置在审

专利信息
申请号: 201410571606.0 申请日: 2014-10-23
公开(公告)号: CN105591527A 公开(公告)日: 2016-05-18
发明(设计)人: 徐超;吴永红;姜祝;武东健;赵一阳 申请(专利权)人: 北京航天计量测试技术研究所;中国运载火箭技术研究院
主分类号: H02M1/00 分类号: H02M1/00
代理公司: 核工业专利中心 11007 代理人: 王朋
地址: 100076 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明属于电源技术领域,具体涉及一种提高并联功率MOSFET均流性能的方法及其实现装置,目的在于解决现有MOSFET电路各支路因参数不一致等问题造成的电流过大而烧坏器件的问题。该方法包括计算需并联的串联电路的路数、各并联支路增加MOSFET使所有MOSFET构成串流关系和使用关联的驱动电路分别驱动串联的功率MOSFET三个步骤。该方法能够在定性的基础上即可解决并联功率MOSFET由于参数不一致而造成的分流不均从而烧坏器件的问题。不必再采取要求极为苛刻且可操作性较差的措施来保证均流。该方法原理简单,操作方便,工艺稳定,重现性好。具有适应各类型需采用并联功率MOSFET均流的场合的特色,且适应于工业化规模生产。
搜索关键词: 提高 并联 功率 mosfet 性能 方法 及其 实现 装置
【主权项】:
一种提高并联功率MOSFET均流性能的方法,包括如下步骤:第一步:计算需并联的串联电路的路数;第二步:各并联支路增加MOSFET使所有MOSFET构成串流关系;第三步:使用关联的驱动电路分别驱动串联的功率MOSFET。
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