[发明专利]一种分析样品中相互干扰元素真实浓度的方法在审
申请号: | 201410581900.X | 申请日: | 2014-10-27 |
公开(公告)号: | CN104297217A | 公开(公告)日: | 2015-01-21 |
发明(设计)人: | 马增 | 申请(专利权)人: | 天津速伦科技有限公司 |
主分类号: | G01N21/62 | 分类号: | G01N21/62 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 300384 天津市南开区滨海高新区*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明创造提供一种分析样品中相互干扰元素真实浓度的方法,应用于原子发射光谱分析系统中,根据共存元素的相互干扰关系建立模型:其中,n表示待分析样品中的元素个数,kij表示待分析样品中共存元素的相互干扰系数,Ci表示待分析样品中第i个元素的测量浓度。根据标准样品中元素的标准浓度获得元素的相互干扰系数,提高相互干扰系数的准确度;可分析样品中多种元素的相互干扰且对样品中的共存元素个数无限制,分析效率高;可分析样品中谱线波长接近的共存元素,并获取共存元素的相互干扰系数,分析精度高。 | ||
搜索关键词: | 一种 分析 样品 相互 干扰 元素 真实 浓度 方法 | ||
【主权项】:
一种分析样品中相互干扰元素真实浓度的方法,应用于原子发射光谱分析系统中,其特征在于:包括以下步骤:S1.激发端激发待分析样品,形成待分析样品中元素的光谱;S2.测控端通过光电倍增管将光信号转化为电信号,以获得每个元素的特征谱线强度,然后,测控端采集待分析样品中第i个分析元素的测量强度Ii,并将Ii传送至处理器中;S3.处理器调用存储器中的曲线系数A、B、C、D,通过公式一:Ci=A*Ii3+B*Ii2+C*Ii+D,获得待分析样品中相互干扰元素的测量浓度C1~Cn,其中Ii表示待分析样品中第i个元素的测量强度,Ci表示待分析样品中第i个元素的测量浓度;S4.处理器调用存储器中共存元素的相互干扰系数kij,并结合S3中的Ci,建立模型一: 通过解算模型一获得待分析样品中的元素的真实浓度Ci0;其中,n表示待分析样品中的元素个数,kij表示待分析样品中共存元素的相互干扰系数,Ci表示待分析样品中第i个元素的测量浓度。
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