[发明专利]用于大面积基板处理系统的加载锁定腔室在审

专利信息
申请号: 201410587106.6 申请日: 2009-08-27
公开(公告)号: CN104392947A 公开(公告)日: 2015-03-04
发明(设计)人: M·贝赫加德;栗田真一;稻川真;S·安瓦尔 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 陆勍
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明一般包括用于将大面积基板传送进入真空处理腔室的加载锁定腔室。所述加载锁定腔室可以具有一或多个分隔开且环境隔离的环境。各个处理环境可以具有数个用以抽吸真空的排气端口。所述排气端口可以位于所述处理环境的角落。当基板自工厂界面而置入所述加载锁定腔室时,所述环境可能需要被排空。由于所述排气端口位于所述环境的所述角落,故可能存在的任何微粒或污染物会被抽吸至最接近的角落,而在不会被抽吸跨越所述基板的前提下,离开所述加载锁定腔室。因此,可降低基板的污染。
搜索关键词: 用于 大面积 处理 系统 加载 锁定
【主权项】:
一种加载锁定,包括:可抽真空腔室,具有基板支撑件用以支撑一或多个矩形基板,所述可抽真空腔室具有形成四个角落的四个侧壁;以及四个泵端口,其中每一泵端口靠近所述四个角落中的相应角落。
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