[发明专利]一种承载装置及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201410617766.4 申请日: 2014-11-03
公开(公告)号: CN104392884B 公开(公告)日: 2017-08-04
发明(设计)人: 郭伟;仝金雨;刘君芳;李桂花;李品欢 申请(专利权)人: 武汉新芯集成电路制造有限公司
主分类号: H01J37/20 分类号: H01J37/20;H01J37/26
代理公司: 上海申新律师事务所31272 代理人: 吴俊
地址: 430205 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种承载装置及其制备方法;通过提供具有设置有与TEM样品的支撑区域形状匹配的凹槽的基体,在对TEM样品进行检测时,只需将TEM样品的支撑区域固定在基体凹槽中,以支撑透射区域悬空,以便于后续在透射电镜中对TEM样品的透射区域进行检测。本发明技术方案可以避免传统承载装置中的铜元素和碳支持膜对TEM样品的观察和分析的干扰,大大提高了对TEM样品进行检测的准确率和效率。
搜索关键词: 一种 承载 装置 及其 制备 方法
【主权项】:
一种承载装置,其特征在于,应用于对TEM样品的检测工艺中,所述TEM样品包括支撑区域和用于检测的透射区域,所述装置包括一基体,位于所述支撑区域的所述TEM样品固定设置在所述基体上,以使得所述透射区域悬空;所述基体上设置有与所述支撑区域形状匹配的凹槽,所述支撑区域插入所述凹槽中,以将所述TEM样品固定在所述基体上,所述承载装置还包括一加固条,所述支撑区域插入所述凹槽中后,所述加固条覆盖所述凹槽,以将位于所述支撑区域的TEM样品固定在所述凹槽;所述凹槽的侧边与所述基体的上表面的一边缘上下重叠;其中,对位于悬空的所述透射区域中的TEM样品进行所述检测工艺。
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