[发明专利]一种薄介质的无接触式检测方法及装置有效
申请号: | 201410617820.5 | 申请日: | 2014-11-04 |
公开(公告)号: | CN104297260B | 公开(公告)日: | 2017-10-10 |
发明(设计)人: | 金晓峰;刘建平;梁添才;龚文川 | 申请(专利权)人: | 广州广电运通金融电子股份有限公司 |
主分类号: | G01N21/95 | 分类号: | G01N21/95 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人: | 曹志霞 |
地址: | 510663 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明实施例公开了一种薄介质的无接触式检测方法及装置,解决了现有机械测厚装置、红外检测装置和超声波检测装置进行薄介质表面异物检测,而导致的精度较低和测量波长长的技术问题。本实施例方法包括获取由光源的发射光线经薄介质反射回的目标光线到达线列光电探测器的时间和获取光源经参考平面反射回的参考光线到达线列光电探测器的时间;根据获取到的目标光线和参考光线到达线列光电探测器的时间,计算目标光线和参考光线对应的第一光程和第二光程,通过信号处理模块按照预置计算方式获取干涉条纹亮暗条纹数;将干涉条纹亮暗条纹数与标准干涉条纹亮暗条纹数按照预置方式进行差值法比对,若比对结果大于预置阈值,则薄介质表面存在异物。 | ||
搜索关键词: | 一种 介质 接触 检测 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种薄介质的无接触式检测方法,其特征在于,包括:S1:获取由光源的发射光线经薄介质反射回的目标光线到达线列光电探测器的时间;S2:获取所述光源经参考平面反射回的参考光线到达所述线列光电探测器的时间;S3:根据第一公式结合所述参考光线到达所述线列光电探测器的时间计算出所述参考光线的第一光程,并根据第二公式结合所述目标光线到达所述线列光电探测器的时间计算出所述目标光线的第二光程;结合所述第一光程、所述第二光程和所述线列光电探测器的光敏单元的数目按照第三公式计算出干涉条纹亮暗变化次数;将所述干涉条纹亮暗变化次数根据第四公式计算出干涉条纹亮暗变化平均值;S4:获取所述干涉条纹亮暗变化平均值与标准干涉条纹亮暗变化平均值的差值;对所述差值与预置阈值进行比对,若比对结果大于所述预置阈值,则所述薄介质表面存在异物,若比对结果不大于所述预置阈值且不小于零,则所述薄介质表面不存在异物;所述第一公式为所述第一光程Δ1=ct1;所述第二公式为所述第二光程Δ2=ct2;其中,t1为从光源开启到参考光线到达线列光电探测器的时间,t2为从光源开启到目标光线到达线列光电探测器的时间;所述第三公式为所述干涉条纹亮暗变化次数其中,M为所述光源的光信号行扫描总行数,N为所述线列光电探测器的光敏单元的数目,λ0为所述光源的波长;所述第四公式为所述干涉条纹亮暗变化平均值
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