[发明专利]光阻脱除剂和电子元件及其制造方法在审
| 申请号： | 201410625929.3 | 申请日： | 2014-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN104656381A | 公开（公告）日： | 2015-05-27 |
| 发明（设计）人： | 朱翊祯;卢厚德 | 申请（专利权）人： | 达兴材料股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 秦剑 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种光阻脱除剂，包括由式1表示的醇醚类化合物、选自式2表示的化合物、式3表示的化合物及其混合物的极性溶剂以及至少一种由式4表示的仲醇胺或叔醇胺，其中n为1～3的整数；R1为C1-C4烷基；R2各自独立为氢或甲基；X1和X2可分别为C1-C4亚烷基、C2-C4亚烯基、>Rx-COOH或>RyOH，其中Rx为C1-C3连结基，Ry为C1-C4连结基；R3为H、C1-C4烷基或-RzOH，其中Rz为C1-C4连结基；R4和R5分别为C1-C4亚烷基，且Y1和Y2可分别为H或-OH，且R3、Y1和Y2中的至少一者含有-OH。 | ||
| 搜索关键词： | 脱除 电子元件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光阻脱除剂，包括：醇醚类化合物，由式1表示；极性溶剂，选自式2表示的化合物、式3表示的化合物及其混合物；以及至少一种仲醇胺或至少一种叔醇胺，由式4表示；其中n为1～3的整数，R1为C1‑C4烷基，R2各自独立为氢或甲基，X1和X2分别为C1‑C4亚烷基、C2‑C4亚烯基、>Rx‑COOH或>RyOH，其中Rx为C1‑C3连结基，Ry为C1‑C4连结基，R3为H、C1‑C4烷基或‑RzOH，其中Rz为C1‑C4连结基，R4和R5分别为C1‑C4亚烷基，且Y1和Y2分别为H或‑OH，且R3、Y1和Y2中的至少一者含有‑OH。
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