[发明专利]基板清洗方法、基板清洗系统

摘要

本发明提供一种基板清洗方法、基板清洗系统。能够抑制基底膜被侵蚀并去除已附着于基板的粒径较小的异物。实施方式的基板清洗方法包括成膜处理液供给工序和剥离处理液供给工序。在成膜处理液供给工序中，向表面具有亲水性的基板供给含有挥发成分并用于在基板上形成膜的成膜处理液。在剥离处理液供给工序中，向处理膜供给用于使该处理膜自基板剥离的剥离处理液，该处理膜是成膜处理液因挥发成分挥发而在基板上固化或硬化而成的。

主权项

1.一种基板清洗方法，其特征在于，该基板清洗方法包括：成膜处理液供给工序，在该成膜处理液供给工序中，向表面具有亲水性的基板供给含有挥发成分并用于在基板上形成膜的成膜处理液；和剥离处理液供给工序，在该剥离处理液供给工序中，向处理膜供给用于使该处理膜自所述基板剥离的剥离处理液，该处理膜是所述成膜处理液因所述挥发成分挥发而在所述基板上固化或硬化而成的，其中在所述剥离处理液供给工序中所供给的剥离处理液浸透到所述处理膜和所述基板的表面之间，从而所述处理膜以膜的状态自所述基板剥离。