[发明专利]一种石墨核壳结构的制备工艺在审

专利信息
申请号: 201410660761.X 申请日: 2014-11-18
公开(公告)号: CN105671488A 公开(公告)日: 2016-06-15
发明(设计)人: 李鹏 申请(专利权)人: 平度市华东石墨加工厂
主分类号: C23C14/18 分类号: C23C14/18;C23C14/35;C23C16/513
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 266745 山*** 国省代码: 山东;37
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种石墨核壳结构的制备工艺,铜薄膜的制备:采用DPS-Ⅲ型超高真空对靶磁控溅射镀膜设置来制备厚度为100nm的铝薄膜,使用的基片为单晶Si100,靶材是直径为5cm的高纯铝靶,将Si100基片分别用丙酮、酒精和去离子水超声清洗15min后放入镀膜设备的样品台上,当真空室的背景压强低于3×104Pa后,开始在Si100上沉积铝膜,沉积过程中,Ar气流量为50sccm,溅射压强为0.3Pa。本发明优点石墨和铜特性优势互补,制备了石墨核壳结构(GS/CC)材料,降低成本的同时显著提升核壳结构材料的场发射性能,在信息技术、生物医学等领域具有潜在的应用。
搜索关键词: 一种 石墨 结构 制备 工艺
【主权项】:
一种石墨核壳结构的制备工艺,其特征是:铜薄膜的制备:采用DPS‑Ⅲ型超高真空对靶磁控溅射镀膜设置来制备厚度为100nm的铝薄膜,使用的基片为单晶Si100,靶材是直径为5cm的高纯铝靶,将Si100基片分别用丙酮、酒精和去离子水超声清洗15min后放入镀膜设备的样品台上,当真空室的背景压强低于3×104Pa后,开始在Si100上沉积铝膜,沉积过程中,Ar气流量为50sccm,溅射压强为0.3Pa。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于平度市华东石墨加工厂,未经平度市华东石墨加工厂许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410660761.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top